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報(bào)告顯示：中國僅四成發(fā)明專利維持時(shí)間達(dá)10年以上

2009-07-24
　　中國國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局２３日發(fā)布的《２００８中國有效專利年度報(bào)告》顯示，雖然近年來中國有效專利擁有量增長迅速，但專利維持時(shí)間短，僅四成國內(nèi)發(fā)明專利的維持時(shí)間達(dá)到１０年以上，低于國際平均水平。

　　專利權(quán)維持有效的時(shí)間越長，表明其創(chuàng)造經(jīng)濟(jì)效益的時(shí)間越長，市場(chǎng)價(jià)值越高。但數(shù)據(jù)顯示，在中國國內(nèi)發(fā)明專利中，維持時(shí)間達(dá)到１０年的有４４．０％，達(dá)到２０年的僅有３．２％；而國外發(fā)明專利中，維持時(shí)間達(dá)到１０年的有８２．２％，達(dá)到２０年的有２２．８％。

　　中國國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局有關(guān)負(fù)責(zé)人表示，這一方面反映出中國創(chuàng)新主體掌握的專利以“短平快”為主，總體技術(shù)水平不高，核心專利少，另一方面也說明創(chuàng)新主體在專利權(quán)的維持上可能存在困難，需要予以扶持。

　　有效專利是指截至報(bào)告期末，專利權(quán)處于維持狀態(tài)的專利?！叮玻埃埃钢袊行＠甓葓?bào)告》也顯示，盡管中國有效專利在一些技術(shù)領(lǐng)域占據(jù)優(yōu)勢(shì)，但在一些高新技術(shù)領(lǐng)域，如半導(dǎo)體、光學(xué)、控制和發(fā)動(dòng)機(jī)領(lǐng)域與國外還有很大差距，中國創(chuàng)新主體在高技術(shù)領(lǐng)域的自主創(chuàng)新水平亟待提高。

　　截至２００８年底，中國有效專利共計(jì)１１９．５萬件。

　

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